废ITO靶材回收的核心挑战在于：

成分复杂：除In₂O₃、SnO₂外，含粘结剂、金属背板（铜/钼）等。

高纯度要求：再生铟纯度需达99.99%以上，杂质含量需严格控制在ppm级，否则影响新靶材性能。

铟锡分离：分离铟锡是实现价值化的关键。

闭环工艺：价值再造的精益之路

ITO靶材回收流程：

1. 收集废靶材：收集来源：面板厂、镀膜厂等使用ITO靶材的企业。

2. 表面处理/预处理 ：清洗表面杂质、油污、物理去除残留膜层

3. 靶材分离：机械切割或分解、分离金属基板与ITO涂层

4. 湿法冶金回收：用酸（如硝酸、盐酸等）溶解ITO层、萃取液中回收铟和锡元素

5. 纯化与精炼 萃取、沉淀等精细化学手段，获得高纯度的铟、锡化合物

6. 再利用 提纯后的铟、锡用于制备新ITO靶材或其他用途

氧化铟锡(ITO)靶材广泛应用于平板显示器和太阳能电池的生产，在ITO目标使用了一段时间后，将其替换为新的目标，用过的ITO靶含有大量的铟，可以通过各种工艺回收。

从用过的ITO靶材中回收氧化铟包括几个步骤，包括溶解、沉淀和焙烧。首先将目标材料溶解在盐酸中，盐酸溶解氧化铟，然后加入氢氧化钠从酸性溶液中析出氧化铟。生成的氢氧化铟然后在高温下焙烧得到氧化铟。